關于防止半導體分子污染的控制
有關半導體分子污染的控釋，即是我們通常所說的AMC控制，通常有兩個標準，一個是ISO14644標準，還有一個是Semi標準。
AMC分為四種，第一種是酸性，第二種是堿性，第三種是可凝性、第四中是摻雜性。堿性的物質主要在光照這部分會產生一些影響，摻雜性的問題并不是很突出孫，其他的情況基本問題不大。
對于半導體制造的影響有很多，每個制程都有一些影響，舉一些例子就是酸、堿、Solvent比較敏感，ECP對VOC和酸比較敏感，ThinFilm對酸敏感。
AMC的控制大體上有這樣一個方案，不同的工廠可能采用的形式不一樣，對于新鮮空氣AMC控制我們通過兩道，第一個是噴氣式。第二個是化學過濾器，通過這兩道過濾送進潔凈室的新風會得到比較好的控制。在潔凈室內有一部分污染是來自潔凈室內，這部分還是通過化學過濾器，如果還達不到要求，那就要在設備端小環境再安裝一道化學過濾器，來達到要求。所以AMC控制要求越來越嚴，這也是近幾年的事情，單單是設備進行過濾已經不能滿足要求，所以才出來綜合的控制模式。具體的一個工廠AMC控制到什么標準要去考量，因為涉及到成本的問題。
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