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      有關防止半導體分子污染的控制
      發布時間:2009-12-21           瀏覽量:2381 次

                                         關于防止半導體分子污染的控制
      有關半導體分子污染的控釋,即是我們通常所說的AMC控制,通常有兩個標準,一個是ISO14644標準,還有一個是Semi標準。

      AMC分為四種,第一種是酸性,第二種是堿性,第三種是可凝性、第四中是摻雜性。堿性的物質主要在光照這部分會產生一些影響,摻雜性的問題并不是很突出孫,其他的情況基本問題不大。

      對于半導體制造的影響有很多,每個制程都有一些影響,舉一些例子就是酸、堿、Solvent比較敏感,ECP對VOC和酸比較敏感,ThinFilm對酸敏感。

      AMC的控制大體上有這樣一個方案,不同的工廠可能采用的形式不一樣,對于新鮮空氣AMC控制我們通過兩道,第一個是噴氣式。第二個是化學過濾器,通過這兩道過濾送進潔凈室的新風會得到比較好的控制。在潔凈室內有一部分污染是來自潔凈室內,這部分還是通過化學過濾器,如果還達不到要求,那就要在設備端小環境再安裝一道化學過濾器,來達到要求。所以AMC控制要求越來越嚴,這也是近幾年的事情,單單是設備進行過濾已經不能滿足要求,所以才出來綜合的控制模式。具體的一個工廠AMC控制到什么標準要去考量,因為涉及到成本的問題。

       

                      
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